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等離子體清洗技術的最大特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對玻璃、金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。 等離子體的”活性”組分包括:離子、電子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的。
輸送線 | 長度3100mm,速度0—3.6m/min可調,自動/手動設置均可 |
AP plasma寬幅 | 800mm |
噴涂系統有效行程 | 0-820mm可調 |
輸入電壓 | AC220V |
功率 | 3KW |
噴霧嘴可調節寬度(Z 軸) | 50mm |
空氣壓力 | 4~8kg/cm2 |
控制方式 | PLC Type(觸摸屏界面控制) |